产品介绍

晶圆研磨胶带广泛应用于半导体封装的前道制程,贴合在有电路的晶圆正面。在研磨减薄过程中保护电路,提供机械支撑,并吸收研磨过程中的机械应力,并确保晶圆在后续工艺过程中免受酸碱液腐蚀。

 

典型应用

广泛应用于半导体封装的前道制程,贴合在有电路的晶圆正面。
半导体应用场景_晶圆研磨1.png

晶圆正面贴膜

半导体应用场景_晶圆研磨2.png

晶圆翻转固定

半导体应用场景_晶圆研磨3.png

晶圆背面研磨

推荐型号

型号

产品特性

制成条件推荐

突起高度范围(μm) 

基材材质

颜色

产品厚度

UV前粘着力 (gf/25mm)

UV后粘着力 (gf/25mm)

UC1028

硬胶,高度均一性,先进封装

先进封装,
SDBG工艺

≤10

PET复合膜

透明

100μm

>800

<30

UC1030

软胶,初黏高, 填充性能好,耐酸效果好,抗残胶

晶圆表面研磨

≤15

EVA

浅蓝色

130μm

>300

<30

UC1050

软胶,填充性能好,不回弹,包覆性好, 抗残胶性能好

中Bump晶圆研磨

30-100

PO

浅蓝色

230μm

>500

<30

UC1100

胶性稳定,包覆性好,填充性能好

高Bump晶圆研磨

100-300

PET复合膜

磨砂白

440μm

>300

<100

UN1023

软胶,耐酸,抗残胶

晶圆表面研磨

<10

PO

浅蓝色

150μm

100-300

100-300

UN1024

软胶,厚胶层,耐酸,抗残胶

低Bump晶圆研磨

<30

EVA

浅蓝色

170μm

150-350

150-350

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